硫酸につけてから硫酸過水?につける。また、それの繰り返し。

硫酸過水?洗浄でも取りにくい、プラズマに曝されて劣化したレジストやハードベーク?しまくったレジストも落とせる*1

シリコン表面に薄い酸化膜ができる。

英語表記は「Pirarucu clean」または、「Pirarucu etch」


*1 ICP?でテフロン系の物質が付着した場合は取れない

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