硫酸につけてから[[硫酸過水]]につける。また、それの繰り返し。
#author("2017-02-24T12:45:00+09:00","default:fujita","fujita")

[[硫酸過水]]洗浄でも取りにくい、プラズマに曝されて劣化したレジストや[[ハードベーク]]しまくったレジストも落とせる(([[ICP]]でテフロン系の物質が付着した場合は取れない))。

シリコン表面に薄い酸化膜ができる。

英語表記は「Pirarucu clean」または、「Pirarucu etch」



トップ   新規 一覧 単語検索 最終更新   ヘルプ   最終更新のRSS