Inductive Coupled Plasma (誘導結合プラズマ)- Reactive Ion Etching([[RIE]])のこと。省略してICPと読んでいる。

プラズマ発生源のコイル型電極と引き出し電極(プラテン)からできていて、コイル側で高密度のプラズマを発生し、引出し電極で試料にイオンやラジカルを引き寄せる。

高密度プラズマが発生できるところに利点がある。

引き出し電圧が低いため、イオン衝突などの物理的ダメージを少なくエッチングできる。
そのため、マスク材とのエッチング選択性が高い。


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