RCA社で開発された洗浄方法。半導体の洗浄に良く使われる。

硫酸過水?(有機除去)→HF?(酸化膜除去)→アンモニア過水?(パーティクル除去)→HF?(酸化膜除去)→塩酸過水?(金属除去)→HF?(酸化膜除去)→水という順番で洗うのが一般的

順番や薬品、混合比などは会社や研究所などによってさまざまな流派がある。

参考リンク

http://www.jpo.go.jp/shiryou/s_sonota/hyoujun_gijutsu/semicon_vacuum_tech/4_2.htm


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