RCA社で開発された洗浄方法。半導体の洗浄に良く使われる。

[[硫酸過水]](有機除去)→[[HF]](酸化膜除去)→[[アンモニア過水>アンモニア過水洗浄]](パーティクル除去)→[[HF]](酸化膜除去)→[[塩酸過水]](金属除去)→[[HF]](酸化膜除去)→水という順番で洗うのが一般的

順番や薬品、混合比などは会社や研究所などによってさまざまな流派がある。

**参考リンク
http://www.jpo.go.jp/shiryou/s_sonota/hyoujun_gijutsu/semicon_vacuum_tech/4_2.htm



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