Xe(キセノン)とF(フッ素)の化合物。

シリコン表面上で乖離し、XeとFに別れ、Fがシリコンと反応し、揮発性のSiFx?を生成する。 これによってシリコンは等方エッチングされる。

エッチング選択性が高い。SiO2やSiNx?に対してほぼ無限大といわれている。

しかし、水分があるとFがHFを生成し、酸化膜を侵す場合がある


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