Xe(キセノン)とF(フッ素)の化合物。エッチングに用いるときは気体の状態

シリコン表面上で乖離し、XeとFに別れ、Fがシリコンと反応し、揮発性のSiFxを生成する。
これによってシリコンは等方エッチングされる。

エッチング選択性が高い。SiO2やSiNx(窒化膜)、アルミなどに対してほぼ無限大といわれている。

しかし、水分があると分離したFが水分と反応しHFを生成して、酸化膜や窒化膜を侵す場合がある



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